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硬鉻層呈現針孔較為少見，筆者估量是鍍鉻溶液被氯離子污染，當鍍鉻溶液中含過高的氯離子時曾呈現過針孔，后經化驗氯離子含量極低。這一或許可以排除。因溶液使用期不長，有機雜質污染的或許性也不大，有少量帶入也易被鉻酸溶液所氧化。

本來頭一次碳酸鋇加入后未經拌和當即化驗，碳酸鋇與溶液中的硫酸根還未充分起作用，這是調整和化驗工作上所造成的過失，也是業務素質上的問題，多少碳酸鋇能沉積多少硫酸根這一簡略的公式也不予核實，卻又加了750g碳酸鋇，為沉積0．5g／L的硫酸根卻加了2．5g／L的碳酸鋇，然后致使硫酸根的含量降至1．75g／L，鉻酸與硫酸的比例降至l00：0．7。這時如果鍍形狀復雜件底子無法鍍。

當鍍鉻溶液中硫酸根含量下降時，電流效率下降，氫氣析出量添加，然后促使氣體難以逸出的部位產生針孔，本故障便是由此原因引起的。

當硫酸根過量時用碳酸鋇沉積除去，通常2g碳酸鋇可沉積lg硫酸，其反應式如下：

H2S04+BaC03→BaS04↓+C02↑+H20